纳米二氧化硅抛光粉
我公司二氧化硅抛光是一种高纯度颗粒均匀,分散性好,切削力好,镜面效果好的抛光粉,广泛用于多种材料纳米级的高平坦化抛光,
抛光范围:硅晶圆片、锗片、化合物半导体材料,光学器件、蓝宝石片等的抛光加工。金属镜面抛光
抛光特点:具有应用领域广、抛光效率高、杂质含量低、抛光后容易清洗等特点。如:硅片、化合物晶体、光学器件、宝石玉器等的抛光加工。
技术指标:
型号 | 外观 | 粒径 | 纯度 | 应用 |
VK-SP20F | 白色粉末 | 20-30nm | 99.8% | 精抛 |
VK-SP50F | 白色粉末 | 50nm | 99.8% | 精抛 |
VK-SP100F | 白色粉末 | 100nm | 99.8% | 精抛 |
我公司生产的纳米二氧化硅抛光粉具有粒径小、分散性好,粘度低,抛光亮度高,光泽细腻,可以解决材料表面粗糙度、波纹度和表面缺陷等问题。 可以做光学玻璃抛光,玻璃水钻抛光,宝石抛光,金属抛光,石材抛光等精抛。也可参杂到抛光膏或抛光蜡里面当抛光蜡主料。
用量
推荐用量为8~20%,调成浆料再进行抛光。
储藏:常温密闭储藏。
包装:10公斤/袋.
纳米二氧化硅抛光粉 ,光学玻璃抛光,玻璃水钻抛光